钙钛矿实验室产品
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薄膜测量仪器

1:TDM 薄膜测量仪器可应用于薄膜沉积/生长领域:

2:可应用于化合物半导体、硅半导体和光伏薄膜的生产与研发:

3:可实现多个膜系结构的膜厚测量,包括但不限于以下并且测试结果与椭偏仪存在线性关系;


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  • 一、产品介绍

    TDM 薄膜测量仪器可应用于薄膜沉积/生长领域。TDM 产品主要利用白光(激光可选)光源探头,检测控制薄膜制备工艺过程中的重要参数,如薄膜厚度、翘曲度、反射率、表面粗糙度等材料特性。

    可应用于化合物半导体、硅半导体和光伏薄膜的生产与研发。例如目前广泛应用在钙钛矿太阳能薄膜电池制备过程中相关薄膜(例如 FTO,ITO,NiOx,C60,perovskite 等)膜厚、反射率、透射率、钙钛矿材料 nk、带隙、PL 测量。

    功能说明:可实现多个膜系结构的膜厚测量,包括但不限于以下并且测试结果与椭偏仪存在线性关系;

    (1)Glass/FTO;

    (2)Glass/FTO/NiOx;

    (3)Glass/FTO/NiOx/PVK;

    (4)Glass/FTO/NiOx/PVK/C60;

    (5)Glass/FTO/NiOx/PVK/C60/SnO;

    (6)Glass/FTO/NiOx/SAM;

    二、参数介绍


    项目

    参考值

    光源类型及波长范围

     

    氘卤一体,200 – 1100 nm

    LED,445 – 455 nm

    光谱仪范围

    180 – 1100 nm

    光谱仪有效像素

    2048*1

    积分时间

    0.1ms – 256sec

    光谱仪数量

    2

    光斑直径

    1.5mm – 2.5mm

    最大样品尺寸

    210 * 210 mm

    膜厚测量范围

    15 – 1000 nm

    重复测量稳定性

    0.5% 或 5nm(取较大值)

    测量时间

    <1 min(根据模型设置变化)


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